پوشش خلاء Gr1 لوله تیتانیوم اهداف ASTM B861-06A OD133mm

فناوری پوشش خلاء به طور کلی به دو دسته تقسیم می شود ، یعنی فناوری رسوب گذاری فیزیکی بخار (PVD) و فناوری رسوب بخار شیمیایی (CVD).
فن آوری رسوب بخار فیزیکی به روش رسوب مستقیم مواد آبکاری روی سطح بستر با گاز رسانی به اتمها و مولکولها یا یونیزاسیون به یونها با روشهای مختلف فیزیکی در شرایط خلاء اشاره دارد.فیلمهای واکنش سخت عمدتا با رسوب فیزیکی بخار تهیه می شوند ، که از برخی فرایندهای فیزیکی مانند تبخیر حرارتی مواد یا پاشیدن اتمها در سطح مواد تحت بمباران یونی استفاده می کند تا فرایند انتقال قابل کنترل اتمها از مواد منبع به مواد را تحقق بخشد. فیلمفن آوری رسوب بخار فیزیکی دارای مزایای بسیاری است ، مانند فیلم خوب/نیروی اتصال خوب ، فیلم یکنواخت و جمع و جور ، ضخامت فیلم قابل کنترل ، هدف گسترده ، دامنه وسیع پاشش ، فیلم ضخیم را می توان رسوب داد ، فیلم آلیاژی با ترکیب پایدار و تکرارپذیری خوب.در همان زمان ، رسوب بخار فیزیکی می تواند به عنوان آخرین فرایند پردازش برای ابزارهای فیلم HSS و سیمان کاربید استفاده شود ، زیرا دمای پردازش را می توان زیر 500 درجه سانتیگراد کنترل کرد.از آنجا که فن آوری رسوب بخار فیزیکی می تواند عملکرد برش ابزار برش را تا حد زیادی بهبود بخشد ، مردم برای توسعه تجهیزات با کارایی بالا و قابلیت اطمینان بالا ، اما همچنین گسترش زمینه های کاربرد آن ، به ویژه در استفاده از فولاد با سرعت بالا ، کاربید و سرامیک ، رقابت می کنند. برای تحقیقات عمیق تر
فناوری رسوب بخار شیمیایی ، گاز عنصری حاوی عنصر غشایی یا پایه تأمین کننده ترکیب ، به کمک فاز یا بستر گازی در سطح یک واکنش شیمیایی ، در روش ماتریسی ساخت فلز یا فیلم ترکیبی ، عمدتا شامل مواد شیمیایی فشار اتمسفر است. رسوب بخار ، رسوب بخار شیمیایی کم فشار و دارای هر دو ویژگی رسوب بخار شیمیایی پلاسما CVD و PVD و غیره است.

امکانات

1. چگالی کم و استحکام بالا
2. سفارشی با توجه به نقشه های مورد نیاز مشتریان
3. مقاومت در برابر خوردگی قوی
4. مقاومت در برابر حرارت قوی
5. مقاومت در برابر درجه حرارت پایین
6. مقاومت در برابر حرارت