GMR Films Gr2 اهداف لوله پاشش برای دیسک نوری Magneto

هدف لوله تیتانیوم Titanium Gr2 ASTM B861-06 a 133OD*125ID*2140L Target Sputtering

هدف پوشش یک منبع کندوپاش است که فیلم های عملکردی مختلفی را با کندوپاش مگنترون، آبکاری یونی چند قوس یا سایر انواع سیستم های پوشش تحت شرایط تکنولوژیکی مناسب بر روی بستر تشکیل می دهد.به بیان ساده، ماده هدف، ماده هدف بمباران ذرات باردار با سرعت بالا است.هنگامی که در سلاح های لیزری پرانرژی استفاده می شود، چگالی توان متفاوت، شکل موج های خروجی مختلف و طول موج های مختلف لیزر با اهداف مختلف در تعامل است، اثرات کشتار و تخریب متفاوتی ایجاد می شود.در میان تمام صنایع کاربردی، صنعت نیمه هادی سخت ترین شرایط کیفی را برای فیلم های کندوپاش هدف دارد.امروزه تراشه های سیلیکونی 12 اینچی (300 اپیستاکسی) ساخته شده است.اتصالات به هم از نظر عرض کوچک می شوند.تولیدکنندگان ویفر به اندازه بزرگ، خلوص بالا، تفکیک کم و دانه ریز نیاز دارند که به ریزساختار بهتر هدف تولید شده نیاز دارد.قطر ذرات کریستالی و یکنواختی مواد هدف به عنوان عوامل کلیدی موثر بر میزان رسوب لایه های نازک در نظر گرفته شده است.در بعد فناوری ذخیره سازی، توسعه هارد دیسک های با چگالی بالا و ظرفیت بالا به تعداد زیادی فیلم GMR نیاز دارد.فیلم های کامپوزیتی چند لایه CoF~Cu اکنون به طور گسترده در فیلم های GMR استفاده می شوند.مواد هدف آلیاژی TbFeCo مورد نیاز برای دیسک مغناطیسی نوری هنوز در حال توسعه بیشتر است.دیسک مغناطیسی نوری ساخته شده با آن دارای ویژگی های ظرفیت ذخیره سازی زیاد، عمر طولانی و نوشتن مکرر پاک شدنی بدون تماس است.

امکانات

1. چگالی کم و استحکام بالا
2. با توجه به نقشه های مورد نیاز مشتریان سفارشی شده است
3. مقاومت در برابر خوردگی قوی
4. مقاومت در برابر حرارت قوی
5. مقاومت در برابر دمای پایین
6. مقاومت در برابر حرارت