اهداف رسوب فیزیکی بخار CGD Ti Gr2 لوله برای نمایشگر

133OD*125ID*2940L Include Flange Titanium Tube Target Titanium Gr2 ASTM B861-06 a The Target Material Vacuum Coating

روند توسعه فناوری هدف لوله ارتباط تنگاتنگی با روند توسعه فناوری فیلم نازک در صنایع پایین دستی دارد.فن آوری پوشش خلاء به طور کلی به دو نوع تقسیم می شود: رسوب فیزیکی بخار (PVD) و رسوب بخار شیمیایی (CVD).
رسوب فیزیکی بخار (CGD) روشی است که مستقیماً مواد روکش را با استفاده از روشهای فیزیکی مختلف در خلاء به اتمها ، مولکولها یا یونهای جدا شده به سطح بستر رسوب می کند.تهیه فیلم سخت عمدتا با رسوب فیزیکی بخار انجام می شود.با استفاده از فرایندهای فیزیکی مانند تبخیر حرارتی مواد یا پاشیدن اتم ها بر روی سطح مواد توسط بمباران یونی ، می توان فرایند انتقال قابل کنترل اتم ها را از مواد اولیه به فیلم های نازک پی برد.فن آوری رسوب بخار فیزیکی دارای مزایای چسبندگی خوب بین فیلم و بستر ، فیلم یکنواخت و متراکم ، ضخامت فیلم قابل کنترل ، عرض هدف گسترده ، محدوده پاشش وسیع ، رسوب فیلم ضخیم ، آماده سازی فیلم آلیاژی پایدار و تکرارپذیری خوب است.در عین حال ، از فناوری رسوب گذاری بخار فیزیکی می توان به عنوان آخرین فناوری پردازش فولاد با سرعت بالا و برش فیلم نازک کاربید سیمانی استفاده کرد ، زیرا دمای پردازش را می توان زیر 500 درجه سانتیگراد کنترل کرد.استفاده از فناوری رسوب فیزیکی بخار می تواند عملکرد برش ابزار برش را تا حد زیادی بهبود بخشد.در توسعه تجهیزات با کارایی بالا و قابلیت اطمینان بالا ، زمینه های کاربرد آن نیز گسترش یافته است ، به ویژه در فولاد با سرعت بالا ، کاربید سیمانی و ابزار برش سرامیک.
استفاده از فناوری رسوب فیزیکی بخار می تواند عملکرد برش ابزار برش را تا حد زیادی بهبود بخشد.در توسعه تجهیزات با کارایی بالا و قابلیت اطمینان بالا ، زمینه های کاربرد آن نیز گسترش یافته است ، به ویژه در فولاد با سرعت بالا ، کاربید سیمانی و ابزار برش سرامیک.

مزایای اصلی
چگالی کم قدرت مشخصات بالا
سفارشی سازی درخواست سفارشی
مقاومت در برابر خوردگی عالی
مقاومت در برابر حرارت خوب
عملکرد عالی در دمای پایین
خواص حرارتی خوب
مدول الاستیک کم